Москва, 22 марта. Компания, резидент особой экономической зоны «Технополис Москва», разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.
«В мире насчитывается менее десяти стран, способных производить это ключевое оборудование для создания микросхем. Теперь Россия входит в их число. Это важный шаг на пути к созданию собственного производства микроэлектроники и достижению полной технологической независимости страны», — отметил Собянин.
Мэр также подчеркнул, что разработка фотолитографа велась в сотрудничестве с заводом из Республики Беларусь. Отечественный фотолитограф имеет существенные отличия от зарубежных аналогов, в частности, в нем используется твердотельный лазер в качестве источника излучения.
Кроме того, Сергей Собянин сообщил, что в настоящее время ведется работа над созданием фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Ожидается, что его разработка будет завершена к 2026 году.